Un possibile nuovo procedimento per produrre film sottile al silicio monocristallino

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Ricercatori giapponesi illustrano un metodo produttivo di silicio monocristallino purissimo con uno strato di 10 micrometri, un dodicesimo delle attuali celle FV. Risparmio di materiali ed energia, costi più che dimezzati, velocità di realizzazione. Ma il procedimento va industrializzato.

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Forse non ne siamo molto consapevoli, ma la Natura ci ha fatto un enorme regalo: pensate se ad avere la proprietà di convertire la luce in elettricità fosse un qualche elemento rarissimo e dallo strano nome, che so, l’itterbio o il praseodimio, e non il silicio, l’elemento solido più comune del pianeta. Sappiamo anche che […]

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